Questões Concurso Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC

Listagem de Questões Concurso Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC

#Questão 425312 - Engenharia Eletrônica, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

#Questão 425313 - Engenharia Eletrônica, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

#Questão 425315 - Engenharia Eletrônica, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

A) a “Voltagem” está com 45º de atraso relativamente à “Corrente”

B) a “Voltagem” está com 90º de atraso relativamente à “Corrente”

C) a “Voltagem” está com 90º de avanço relativamente à “Corrente”

D) a “Voltagem” está com 45º de avanço relativamente à “Corrente”

E) a “Voltagem” está com 30º de atraso relativamente à “Corrente”

#Questão 425319 - Engenharia Eletrônica, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

#Questão 425304 - Engenharia Eletrônica, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

As afirmativas abaixo se referem a técnicas usadas no processo de fabricação de circuitos integrados.

I – Técnica usada na fabricação de circuitos integrados para transferir um padrão desejado para a superfície do wafer, sendo considerada a etapa fundamental de todo o processo.

II – Remoção seletiva de material das áreas do wafer desprotegidas.

III – Na deposição de uma camada de monocristal sobre o substrato, a camada depositada assume exatamente a orientação cristalina do substrato.

Assinale a alternativa que relaciona corretamente a afirmativa com a técnica a que se refere.

A) I – Fotolitografia; II – Etching; III – Crescimento epitaxial.

B) I – Crescimento epitaxial; II – Etching ; III – Fotolitografia.

C) I – Etching; II - Crescimento epitaxial; III – Fotolitografia.

D) I – Crescimento epitaxial; II – Fotolitografia; III – Etching.

E) I – Fotolitografia; II – Crescimento epitaxial; III – Etching.

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