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Questões de Química da FUNRIO

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Listagem de Questões de Química da FUNRIO

#Questão 113416 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Defina o termo stripping para litografia.

A) Revelação do fotorresiste.

B) Estabilização do fotorresiste.

C) Completa remoção do fotorresiste.

D) Etapa posterior à litografia para corrosão do substrato.

E) Limpeza do substrato antes do spinning.

#Questão 113417 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Quais as principais causas das ondas estacionárias nos fotorresistes?

A) Pouca mobilidade das cadeias poliméricas no fotorresiste.

B) Pouca difusão do foto-ácido.

C) Espessura do fotorresiste.

D) A difração nos limites das lentes e nas bordas das estruturas nas máscaras.

E) Comprimento de onda utilizado.

#Questão 113419 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Que fenômenos podem ocorrer no fotorresiste negativo após a exposição?

A) Ativação do foto-ácido, cross-link, dissolução do polímero.

B) Cross-link, polimerização, formação de grupos polares ou apolares, mudança do estado de oxidação dos íons.

C) Ativação do foto-ácido, polimerização, mobilização das cadeias poliméricas.

D) Dissolução do polímero, foto-ativação, difusão de íons.

E) Inibição do foto-ácido, estabilização térmica, cross-link.

#Questão 113421 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Quais as funções das curas no processamento do fotorresiste positivo, sotbake, PEB e hardbake respectivamente:

A) Amolecimento do fotorresiste, uniformização da área exposta, endurecimento do fotorresiste.

B) Amolecimento do fotorresiste, exposição do fotorresiste, endurecimento do fotorresiste.

C) Uniformização da camada, endurecimento do fotorresiste, interrupção da revelação.

D) Refluxo do fotorresiste, evaporação do solvente e inibição do foto-ácido.

E) Evaporação do solvente e ativação do foto-ácido, refluxo do fotorresiste e inibição do foto-ácido com estabilização do fotorresiste.

#Questão 113422 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Para verificar erros de alinhamento em dispositivos, podem ser utilizados dispositivos

A) elétricos simples e medidas de resistência.

B) observados do posicionamento da porta do transistor MOS.

C) alternativos além das marcas de alinhamento.

D) por interferometria ótica.

E) por microscopia holográfica.

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