Questões sobre Princípios de Ciências dos Materiais

#Questão 413749 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Qual técnica de análise é um método não invasivo para a identificação e determinação da estrutura cristalina de materiais?

A) Microscopia eletrônica de varredura.

B) Microscopia eletrônica de transmissão.

C) Espectroscopia de elétrons Auger.

D) Difração de Raios-X.

E) Difração ótica.

#Questão 413767 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

A maior parte dos circuitos integrados atualmente comercializados é processada a partir de que tipo de substrato indicado abaixo. Assinale-o.

A) Silício policristalino com grãos menores que 1 micrometro em sua maior dimensão.

B) Silício policristalino com grãos menores que 0,5 micrometro em sua maior dimensão.

C) Silício monocristalino obtido pelo processo de refusão zonal.

D) Silício monocristalino obtido pelo processo de Czochralski.

E) Silício amorfo apassivado com Hidrogênio.

#Questão 413781 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

O método das quatro pontas é utilizado para

A) implantação seletiva de dopantes na lâmina de silício.

B) medida da resistividade da lâmina de silício.

C) medida da espessura do óxido de porta.

D) medida das características corrente-tensão de um transistor MOSFET.

E) levantamento das característica capacitância-tensão de capacitores MOS.

#Questão 413758 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Qual material apresenta o melhor desempenho com relação à redução de impedâncias parasitárias quando utilizado para a fabricação de placas de circuito impresso para aplicações em altas frequência (2,4 GHz)?

A) Fenolite.

B) Fibra de vidro.

C) Cobre.

D) Plástico.

E) Alumina.

#Questão 413859 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Para a execução de uma implantação de íons, os seguintes parâmetros de processo devem ser selecionados:

A) Corrente elétrica e Campo Elétrico.

B) Energia e dose do feixe de íons, massa do íon e ângulos de inclinação e rotação da amostra.

C) Energia e dose do feixe de elétrons, massa do elétron e ângulo de inclinação da amostra.

D) Corrente e dose do feixe de íons, massa do elétron e sem ângulo de inclinação da amostra.

E) Corrente e dose do feixe de elétrons, massa do íon e sem ângulo de inclinação da amostra.

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