Questões de Engenharia Elétrica

#Questão 413813 - Engenharia Elétrica, Geração e recepção de sinais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

#Questão 413822 - Engenharia Elétrica, Circuitos, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Para avaliar um defeito em um circuito, é necessário realizar a análise de continuidade elétrica entre 2 (dois) pontos de um circuito. Analise as assertivas abaixo e assinale a opção correta:

I) Um teste de continuidade sempre pode ser realizado em um circuito durante seu funcionamento.

II) Através da inserção de uma fonte de corrente em um ponto de um circuito e medindo-se a corrente em outro ponto, é possível testar se existe continuidade elétrica entre estes 2 (dois) pontos sem a necessidade de se alterar características físicas do circuito.

A) As duas assertivas são verdadeiras, e a segunda é uma justificativa correta da primeira.

B) As duas assertivas são verdadeiras, mas a segunda não é uma justificativa correta da primeira.

C) A primeira assertiva é uma proposição verdadeira, e a segunda é uma proposição falsa.

D) A primeira assertiva é uma proposição falsa, e a segunda é uma proposição verdadeira.

E) Tanto a primeira como a segunda assertivas são falsas.

#Questão 413836 - Engenharia Elétrica, Circuitos, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

A) A impedância é capacitiva e o desvio de fase é de 45°.

B) A impedância é capacitiva e o desvio de fase é de 90º.

C) A impedância é indutiva e o desvio de fase é de 90°.

D) A impedância é indutiva e o desvio de fase é de 135°

E) A impedância é indutiva e o desvio de fase é de 45°

#Questão 413858 - Engenharia Elétrica, Microeletrônica, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Para que serve o processo de implantação de íons na tecnologia de fabricação de circuitos integrados e dispositivos semicondutores?

A) Serve para oxidar substratos semicondutores.

B) Serve para limpar substratos semicondutores.

C) Serve para introduzir impurezas (dopantes) em substratos semicondutores.

D) Serve para metalizar substratos semicondutores.

E) Não serve para a tecnologia de fabricação de circuitos integrados e dispositivos semicondutores.

#Questão 413859 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Para a execução de uma implantação de íons, os seguintes parâmetros de processo devem ser selecionados:

A) Corrente elétrica e Campo Elétrico.

B) Energia e dose do feixe de íons, massa do íon e ângulos de inclinação e rotação da amostra.

C) Energia e dose do feixe de elétrons, massa do elétron e ângulo de inclinação da amostra.

D) Corrente e dose do feixe de íons, massa do elétron e sem ângulo de inclinação da amostra.

E) Corrente e dose do feixe de elétrons, massa do íon e sem ângulo de inclinação da amostra.

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