Questões de Engenharia de Materiais da CESPE / CEBRASPE

As aplicações industriais de materiais cerâmicos têm aumentado de forma acentuada nos últimos anos, principalmente em função da otimização dos processos de fabricação, maior pureza das matérias-primas e caracterização mais aprofundada de suas propriedades físicas, mecânicas e elétricas. Considerando as características, estruturas e propriedades dos materiais cerâmicos, julgue os itens subseqüentes.

Os materiais cerâmicos mais utilizados como abrasivos incluem o carbeto de silício, carbeto de tungstênio e óxido de alumínio.

As aplicações industriais de materiais cerâmicos têm aumentado de forma acentuada nos últimos anos, principalmente em função da otimização dos processos de fabricação, maior pureza das matérias-primas e caracterização mais aprofundada de suas propriedades físicas, mecânicas e elétricas. Considerando as características, estruturas e propriedades dos materiais cerâmicos, julgue os itens subseqüentes.

A coalescência de partículas de agregados pulverizados, que ocorre por meio de mecanismos de transporte de massa nos estados sólido e líquido, é denominada sinterização e é realizada por cozimento em temperaturas elevadas.

As aplicações industriais de materiais cerâmicos têm aumentado de forma acentuada nos últimos anos, principalmente em função da otimização dos processos de fabricação, maior pureza das matérias-primas e caracterização mais aprofundada de suas propriedades físicas, mecânicas e elétricas. Considerando as características, estruturas e propriedades dos materiais cerâmicos, julgue os itens subseqüentes.

Comparados aos metais, os materiais cerâmicos apresentam altos valores de tenacidade à fratura, que favorece seu uso em máquinas em que essa propriedade mecânica seja de interesse.

Nos materiais semicondutores, a condutividade elétrica tem forte relação com o tipo e o teor de dopantes adicionados durante o processo de fabricação e também com a temperatura de trabalho. Tanto os elétrons livres como os buracos (elétrons ausentes da banda de valência) podem participar do processo de condução. As propriedades singulares desses dispositivos possibilitam seu uso em funções eletrônicas específicas. Com base nas teorias amplamente aceitas para definição, classificação, processamento, caracterização e utilização de materiais semicondutores, julgue os próximos itens.

Uma junção retificadora p-n pode ser construída a partir de uma única peça de semicondutor, dopada de modo tal que ela seja do tipo n em um dos seus lados e do tipo p no outro.

Nos materiais semicondutores, a condutividade elétrica tem forte relação com o tipo e o teor de dopantes adicionados durante o processo de fabricação e também com a temperatura de trabalho. Tanto os elétrons livres como os buracos (elétrons ausentes da banda de valência) podem participar do processo de condução. As propriedades singulares desses dispositivos possibilitam seu uso em funções eletrônicas específicas. Com base nas teorias amplamente aceitas para definição, classificação, processamento, caracterização e utilização de materiais semicondutores, julgue os próximos itens.

O MOSFET (metal-oxide-semiconductor field effect transistor), dispositivo semicondutor composto por junções n-p-n ou p-n-p, é usado para amplificar sinais elétricos. O MOSFET do tipo enriquecimento construído em substrato do tipo P é um MOSFET do tipo PMOS.