Questões de Engenharia Química da FUNRIO

Nos últimos anos, tem-se inserido continuamente a automatização na produção de Circuitos Integrados em larga escala. No caso específico do sistema de dosagem, têm sido desenvolvidos equipamentos para operacionalizar, de forma automatizada e exata, a dosagem de produtos químicos necessárias ao processo produtivo. Em razão do seu conceito de operação, o sistema de dosagem progressiva

Uma forma sistemática de limpeza, denominada limpeza acústica, utiliza um "mecanismo suave de limpeza". O processo gera ondas sonoras que vibram os materiais. Esse processo é usado mais frequentemente nas indústrias de semicondutores, porque é menos susceptível de causar danos, especialmente para aqueles materiais sensíveis que precisam ser limpos regularmente. Os tipos mais comuns dessa tecnologia são o ultrassom e o megasonic. Qual a principal diferença entre o sistema de limpeza ultrassônica e megasonic?

Um procedimento-padrão de limpeza na fabricação de Circuitos Integrados é verificar se os recipientes e materiais que serão manipulados estão limpos. Isso ocorre antes mesmo da limpeza das lâminas de silício, para evitar a contaminação. Nesse caso, ocorrem 2 (duas) etapas de limpeza desses materiais: a de pré-lavagem e a de retirada de gordura. A etapa de pré-lavagem é realizada com detergente apropriado. Outra possibilidade é que, em vez da lavagem com detergente, as vidrarias do laboratório sejam mergulhadas em uma solução denominada

Em relação à terminologia aplicada à prática da Manutenção, assinale a alternativa que representa o item que pode falhar somente uma vez.