Julgue os itens a seguir, relativos ao crescimento epitaxial de filmes. 71
O processo de crescimento epitaxial é tipicamente empregado na formação de filmes policristalinos.
Julgue os itens a seguir, relativos ao crescimento epitaxial de filmes. 71
O processo de crescimento epitaxial pode ser realizado com o emprego de processos de PVD ou de deposição química em fase vapor (CVD).
Acerca da formação de filmes por deposição química em fase vapor (CVD), julgue os itens a seguir.
Os processos de CVD permitem uma excelente cobertura de degrau pelo filme depositado.
Acerca da formação de filmes por deposição química em fase vapor (CVD), julgue os itens a seguir.
As taxas de deposição obtidas por CVD são bem inferiores às obtidas por PVD, nas tecnologias VLSI (very large scale integration).Julgue os itens subseqüentes, referentes às propriedades de filmes finos.
Na oxidação térmica de lâminas de silício, ocorre a difusão do silício da lâmina, através do óxido nativo, para reagir com o agente oxidante.
Julgue os itens subseqüentes, referentes às propriedades de filmes finos.
As propriedades de absorção e transmissão ópticas de um filme fino dependem da espessura do mesmo.
Julgue os itens subseqüentes, referentes às propriedades de filmes finos.
Os mecanismos de transporte de carga elétrica em filmes condutores finos independem da temperatura.
Julgue os próximos itens, relativos a superfícies.
A microscopia de ponta de prova é de grande utilidade na funcionalização de superfícies.
Julgue os próximos itens, relativos a superfícies.
A energia de uma dada superfície, com área superficial fixa, não pode ser reduzida pela adsorção de espécies.
Julgue os próximos itens, relativos a superfícies.
Materiais porosos têm sido empregados como reatores químicos em escala nanoscópica.
