2861 Q485742
Física
Ano: 2012
Banca: FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO)
No processo de geração de plasma, quando se aumenta a voltagem, a densidade do plasma
2862 Q485740
Física
Ano: 2012
Banca: FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO)
O plasma pode ser definido como
2863 Q485738
Física
Ano: 2012
Banca: FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO)
Considerando as propriedades de um plasma e as de um gás com moléculas eletricamente neutras é correto afirmar que
2864 Q485736
Física
Ano: 2012
Banca: FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO)
Assinale uma desvantagem do processo de deposição química a partir de vapor melhorada por plasma.
2865 Q485734
Física
Ano: 2012
Banca: FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO)
Uma vantagem do reator para deposição química a partir de vapor melhorada por plasma é
2866 Q485732
Física
Ano: 2012
Banca: FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO)
O tipo de reator de deposição química melhorada por plasma (PECVD) utilizado para obter um processamento de substratos com diâmetros maiores que 200 mm
2867 Q485730
Física
Ano: 2012
Banca: FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO)
Os 3 (três) tipos principais de reatores para deposição química de vapor melhorada por plasma (PECVD) são as placas
2868 Q485728
Física
Ano: 2012
Banca: FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO)
Leia atentamente as afirmativas abaixo.

I – O plasma pode ser caracterizado por fluorescência de raios-X.

II – A espectrometria de emissão ótica é uma técnica de caracterização de plasma baseada na emissão de fótons característicos pelo plasma.

III – A espectrometria de emissão ótica possibilita a quantificação de espécies ativas e a medida da temperatura dos elétrons, dentre outras medidas possíveis.

Assinale a alternativa com a(s) afirmativa(s) correta(s).
2869 Q485726
Física
Ano: 2012
Banca: FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO)
O conceito de Rastreabilidade Metrológica ou, simplesmente, Rastreabilidade pode ser descrito como
2870 Q485724
Física
Ano: 2012
Banca: FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO)
Quando se diz que determinado campo da metrologia tem como objetivo principal a proteção do consumidor por meio do tratamento das unidades de medida, métodos e instrumentos de medição de acordo com as exigências técnicas e legais obrigatórias, está se referindo à