81
Q413885
Para evitar ou reduzir o efeito de canalização de íons numa lâmina de Si com orientação cristalina (100) durante a implantação de íons, a lâmina deve ser posicionada no implantador com inclinação e rotação?
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Q413883
Para que servem as lentes eletrostáticas no sistema de implantações de íons?
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Q413881
Executando-se a espectroscopia de massa do íon secundário (SIMS) de uma estrutura implantada, consegue-se obter
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Q413879
Executando-se a medida de quatro pontas sobre uma camada implantada e recozida, consegue-se obter
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Q413878
Que processos são utilizados para obter junções rasas (com profundidade menor que 50 nm) em Si do tipo n+?
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Q413876
Que parte do sistema de implantação de íons faz a contagem de íons que penetram na lâmina e determina o final do processo?
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Q413874
Qual é a função do analisador magnético do sistema de implantação de íons?
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Q413872
Qual deve ser o ambiente interno no implantador de íons para executar o processo?
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Q413871
Qual processo deve ser executado para corrigir os danos causados pela implantação de íons em lâmina de Si?
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Q413869
Em três lâminas de Si iguais foram implantados os ions de 11B+, na primeira, 31P+, na segunda e 75As+, na terceira. Qual implantação de íons destruirá mais a rede cristalina em sua respectiva lâmina de Si. Nota: todas as implantações foram executadas com a mesma energia e dose, e em temperatura ambiente.