Questão Q420602
2004 Centro de Seleção e de Promoção de Eventos UnB (CESPE) Ministério da Ciência e Tecnologia (MCT)
Prova: Concurso Ministério da Ciência e Tecnologia (MCT) - Tecnologista Pleno 3 (Código B2) - Centro de Seleção e de Promoção de Eventos UnB (CESPE) do ano 2004 Ministério da Ciência e Tecnologia (MCT)

A fabricação de dispositivos e circuitos integrados empre...

A fabricação de dispositivos e circuitos integrados emprega uma variedade de procedimentos de transformação de superfícies, entre os quais aqueles destinados à agregação (deposição) de materiais na superfície de um substrato. Também são empregados procedimentos de remoção seletiva de camadas de materiais. A conjugação de procedimentos de deposição e de remoção seletiva de camadas viabiliza a definição da estrutura dos dispositivos e das conexões entre eles, constituindo circuitos integrados. Com relação a esse assunto, julgue os seguintes itens.

O processo de corrosão por pulverização catódica, devido à sua alta seletividade, é freqüentemente empregado na construção de estruturas de dimensão crítica, nas tecnologias MOS-VLSI.

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