Um pedido de patente foi depositado no Brasil em 05 de F...

Questão Q262180

2008 FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) Instituto Nacional de Tecnologia (INT)

Direito Comercial / Empresarial Direito de Propriedade Industrial

Prova: Concurso Instituto Nacional de Tecnologia (INT) - Tecnologista Pleno 1 I - Área Propriedade Intelectual - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) do ano 2008 • Instituto Nacional de Tecnologia (INT)

Um pedido de patente foi depositado no Brasil em 05 de Fevereiro de 2008. Em 03 de Novembro do mesmo ano, conteúdo idêntico ao do referido pedido de patente foi publicado em uma revista científica especializada.O depositante do pedido de patente

pode depositar em 04 de Janeiro de 2009, no exterior, pedido de patente correspondente ao depositado no Brasil, desde que cite a publicação científica ocorrida.

não pode depositar pedido no exterior após 03 de Novembro de 2008, porque a publicação científica retira a novidade do pedido de patente estrangeiro.

deve requerer o exame do pedido de patente a partir de 03 de Novembro de 2008.

deve requerer o exame do pedido de patente após 06 de Fevereiro de 2011.

pode depositar até 05 de Fevereiro de 2009, no exterior, pedido de patente correspondente ao depositado no Brasil, desde que reivindique a prioridade do pedido brasileiro.

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