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Q485742
No processo de geração de plasma, quando se aumenta a voltagem, a densidade do plasma
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Q485740
O plasma pode ser definido como
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Q485738
Considerando as propriedades de um plasma e as de um gás com moléculas eletricamente neutras é correto afirmar que
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Q485736
Assinale uma desvantagem do processo de deposição química a partir de vapor melhorada por plasma.
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Q485734
Uma vantagem do reator para deposição química a partir de vapor melhorada por plasma é
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Q485732
O tipo de reator de deposição química melhorada por plasma (PECVD) utilizado para obter um processamento de substratos com diâmetros maiores que 200 mm
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Q485730
Os 3 (três) tipos principais de reatores para deposição química de vapor melhorada por plasma (PECVD) são as placas
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Q485728
Leia atentamente as afirmativas abaixo. I – O plasma pode ser caracterizado por fluorescência de raios-X. II – A espectrometria de emissão ótica é uma técnica de caracterização de plasma baseada na emissão de fótons característicos pelo plasma. III – A espectrometria de emissão ótica possibilita a quantificação de espécies ativas e a medida da temperatura dos elétrons, dentre outras medidas possíveis. Assinale a alternativa com a(s) afirmativa(s) correta(s).
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Q485726
O conceito de Rastreabilidade Metrológica ou, simplesmente, Rastreabilidade pode ser descrito como
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Q485724
Quando se diz que determinado campo da metrologia tem como objetivo principal a proteção do consumidor por meio do tratamento das unidades de medida, métodos e instrumentos de medição de acordo com as exigências técnicas e legais obrigatórias, está se referindo à