Questão
Q485730
Prova: Concurso Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC - Analista Administrativo Área Engenharia Elétrica (ETEA - FILFIN) - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) do ano 2012
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Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC
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Os 3 (três) tipos principais de reatores para deposição química de vapor melhorada por plasma (PECVD) são as placasComentários
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