Quanto aos reatores de deposição química de vapor melhora...

Questão Q569783

2012 FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO)

Física Geral

Prova: Concurso Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC 2012 - Analista Administrativo Área Engenharia Elétrica (ETEA - FILFIN) - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) do ano 2012 • Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC 2012

Quanto aos reatores de deposição química de vapor melhorada por plasma (PECVD), é correto afirmar que

A as frequências utilizadas estão na faixa dos raios-X e as pressões acima de 0,1 atm. B as frequências utilizadas estão na faixa da radiofrequência e das micro-ondas e as pressões são de até 0,01 atm. C as frequências utilizadas estão na faixa do ultravioleta e as pressões acima de 0,1 atm. D as frequências utilizadas estão na faixa dos raios-X e as pressões são de até 0,01 atm. E as frequências estão na faixa da radiofrequência e das micro-ondas e as pressões devem ser maiores que 0,1 atm.

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