Questão
Q413617
Prova: Concurso Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC - Analista Administrativo Área Engenharia Elétrica (ETEA - DIFUSA) - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) do ano 2012
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Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC
A seguir, são apresentadas algumas vantagens de diferente...
A seguir, são apresentadas algumas vantagens de diferentes processos de deposição química a partir de vapor. I – Reator simples. II – Altas taxas de deposição. III – Excelente pureza e uniformidade. IV – Baixa temperatura. Assinale a alternativa que apresenta a(s) vantagem(ns) da deposição química a partir de vapor em baixa pressão.Comentários
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