Que filmes são depositados por LPCVD (deposição química a partir da fase vapor executada em baixa pressão)? 1 -W e SiO2. 2 - SiO2 e Si3N4. 3 - Si3N4 e silício policristalino. 4 - Si3N4, SiO2 e silício policristalino.

Alternativa C: Apenas 1, 2 e 3.

Alternativa D: Apenas 2, 3 e 4.

Que filmes são depositados por LPCVD (deposição química a...

Questão Q413596

2012 FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO)

Engenharia Elétrica Princípios de Ciências dos Materiais

Prova: Concurso Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC - Analista Administrativo Área Engenharia Elétrica (ETEA - CQUALF) - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) do ano 2012 • Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC

Que filmes são depositados por LPCVD (deposição química a partir da fase vapor executada em baixa pressão)?

1 -W e SiO₂.

2 - SiO₂ e Si₃N₄.

3 - Si₃N₄ e silício policristalino.

4 - Si₃N₄, SiO₂ e silício policristalino.

A Apenas 2 e 3. B Apenas 3 e 4. C Apenas 1, 2 e 3. D Apenas 2, 3 e 4. E 1, 2, 3, e 4.

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