No processo de dopagem dos semicondutores para obtenção do elemento tipo N, que é utilizado na fabricação dos diodos e transistores, utilizam-se:
Silício, Germânio, Alumínio e Boro;
Germânio, Boro e Fósforo;
Silício e Boro;
Silício e Fósforo;
Germânio e Alumínio.
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