Controlar os defeitos gerados na lâmina é mais crítico pa...

#Questão 446820 - Engenharia Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Controlar os defeitos gerados na lâmina é mais crítico para dispositivos/circuitos com menores características de tamanho, alta densidade e em lâminas maiores. Dessa forma, a indústria eletrônica tem investido cada vez mais em minimizar os defeitos na máscara. Isso porque os defeitos em uma máscara/retículo acabam causando defeitos na lâmina (substrato) ou desvio de padrão. Um dos defeitos comuns que ocorrem na máscara/retículo é a contaminação com sujeira ou manchas na parte clara da máscara/retículo. Em óptica litográfica, esses defeitos podem ter a seguinte consequência:

A) bloquear a luz e imprimir, na lâmina, uma região transparente onde deveria ser opaca.

B) bloquear a luz e imprimir, na lâmina, uma região opaca onde deveria ser transparente.

C) permitir que toda a luz chegue à lâmina, tornando-a opaca.

D) bloquear a luz e imprimir, na lâmina, uma região transparente onde deveria ser translúcida.

E) permitir que toda a luz chegue à lâmina, tornando-a translúcida.

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