Questão Q425306
2012 FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO)
Engenharia Eletrônica Geral
Prova: Concurso Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC - Analista Administrativo Área Engenheiro de Controle (ETEA - MANUEF) - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) do ano 2012 • Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC

Abaixo são citadas características de dois tipos de etchi...

Abaixo são citadas características de dois tipos de etching: o seco e o molhado.

I – É anisotrópico, por isso, menos suscetível a remoções laterais indesejadas, ocorrendo em taxas mais lentas.

II – Usa agentes químicos, e apresenta remoção altamente seletiva e isotrópica.

III – Ocasiona remoção lateral indesejada

A(s) afirmativa(s) que se refere(m) ao etching seco é (são):

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