Circuitos integrados modernos, tanto analógicos quanto digitais, utilizam transistores de efeito de campo do tipo metal-óxidosemicondutor, denominados MOSFETs. A tecnologia CMOS explora o emprego simultâneo de MOSFETs de canal n (NMOS)
Circuitos integrados modernos, tanto analógicos quanto digitais,
utilizam transistores de efeito de campo do tipo metal-óxidosemicondutor,
denominados MOSFETs. A tecnologia CMOS
explora o emprego simultâneo de MOSFETs de canal
e de MOSFETs de canal p (PMOS), tornando possível o uso de
técnicas de projeto extremamente poderosas. Com respeito às
etapas de fabricação de estruturas CMOS em circuitos integrados,
julgue os seguintes itens.
Na síntese de MOSFETs, normalmente são utilizadas lâminas de silício de alta pureza. Para a deposição do óxido sobre o substrato semicondutor, o único processo eficiente disponível atualmente é a oxidação em fornos especiais ultra-limpos e de alta temperatura (entre 1.000° C e 1.200°C).
Na síntese de MOSFETs, normalmente são utilizadas
lâminas de silício de alta pureza. Para a deposição do óxido
sobre o substrato semicondutor, o único processo eficiente
disponível atualmente é a oxidação em fornos
especiais ultra-limpos e de alta temperatura
(entre 1.000°
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